PVD涂层加工技术带来了可观经济效益的同时也增强了发展潜力

      时至今日， PVD涂层加工技术已在建筑材料、运动器材、电子行业、锁具五金、厨房卫浴、钟表饰品、医疗设备和工具加工等行业得到了广泛而深入的应用，为这些行业带来了可观经济效益的同时也增强了它们的发展潜力。今天越来越多的制造业、建筑业和设计业的工程师都非常认可这些PVD离子镀膜产品效果、特性和优势。

      PVD的全写为Physical Vapor Deposition,中文的翻译为物理气相沉积。所以PVD涂层的意思就是采用这种方法制造的涂层了。以下为我司PVD的涂层生产介绍:

     目前采用阴极电弧等离体积技术。阴极电弧等离子体沉积是相对较新的一种薄膜沉积技术，它在许多方面类离子镀技术，阴极电弧蒸发沉积薄膜的优点主要是，在发射的粒子流中离化率高，而且这些离化的离子具有较高的动能（40~100ev）。许多离子束沉积的优点，如提高粘着力，增加态密度，对化合物膜型成具有高反应率等优点再阴极电弧等离子体沉积中均有所体现。而阴极电弧等离子体沉积又具有一些独特优点，如何在较多复杂形状基片上进行沉积，沉积率高，涂层均匀性高，基片温度低，易于制备理想化学配比的化合物或合金。

     在阴极电弧沉积中，沉积材料是受真空电弧的作用而得到蒸发，在电弧线路中源材料作为阴极。大多数电弧的基本过程皆发生在阴极区电弧点，电弧点的典型尺寸为几微米，，并且有非常高的电流密度。

     通过热蒸发过程将阴极材料蒸发是源于高电流的密度，所得到的蒸发物由电子，离子，中性气象原子和微粒组成。是一简单的电弧蒸发过程示意图。在阴极电弧点，材料几乎百分百被离化，这些离子在几乎垂直于阴极表面的方向发射去，当带有高能量的钛离子碰到氮气后便马上产生化学反应，变成气态的氮化钛分子了。

     薄膜是通过气态的氮化钛分子凝聚到基体的表面的，从而开始了所谓的形骸阶段。氮化钛在基体上先是形成了一些均匀，细小的分子团，这些分子团像液珠一样不断的接受新的沉积分子，直至个各分子团合并为止，一般要进行到薄膜厚度达数十微米才告结束。

薄膜与基底之间会由于范德瓦尔斯引起而结合在一起的。这种物理引力起源于原子间的相互吸引，它随着界面两侧物质间距的增加而迅速降低。虽然这种引力数值较小，每对原子间的作用能0.1ev量级，但它会造成很强的的薄膜附着力。

      PVD涂层加工真空镀膜机的离子镀膜层不易剥落、褪色，表面不易形成污垢，擦洗简单，而且镀膜成本低。可以在不锈钢、铁、铜、钛合金、锌合金等不同基材上镀制以下膜层： 

      一种银灰色的膜层，具有良好的附着性以及良好的耐腐蚀性和耐氧化性。这种镀膜层能够增强它们的润滑性和耐磨损性。目前常见的颜色主要有：深金黄色，浅金黄色，咖啡色，蓝色等。

     PVD真空镀膜设备所镀制的氮化锆是一种浅黄色的膜层，适用于某些氮化钛不太适合涂覆的领域。具有高抗腐蚀性能，良好的光滑表面以及延展性。适用于表面装饰膜层的PVD镀膜设备主要是应用在一些家用五金产品上，另外装饰性膜层同样也能够起到减少表面磨损、抵抗表面腐蚀、延长产品寿命的作用。

PVD真空镀膜机注意事项:

一、开机要先检查水路的畅通性，确定冷却塔、真空泵是否正常工作，检查气路是否畅通，确定空压机是否正常工作。

二、要确定真空室内的膜料、离子源灯丝、工件架是否按要求放置。

三、工艺完成后要关闭电子枪和离子源等开关，待真空镀膜设备冷却一消失后方可关闭电源。?

四、未经允许不可开店电柜、真空室的屏蔽门。

在所有情况下，模具PVD涂层加工都增加了模具部分的厚度，在考虑到材料的特性，在加工时还有温度以及摩擦等等的因素，考虑到这些才能断定模具PVD涂层的影响。 CVD模具PVD涂层处理温度一般为800℃?1000℃。特别是CVD涂覆材料需要经受两遍的高温烤制。 而PVDPVD涂层的加工温度一般在250℃?600℃，温度的影响可能较小，其原因大部分部件，都可以保证在制定的差额之内。但是在某些情况下，PVDPVD涂层在温度低于70℃时，难免会有沉积发生，这样的情况是可以避免的。 PACVD工艺条件下一般都制定在不低于700℃的温度下进行的，因此，尺寸精度和性能通常不受影响。