真空镀膜在装饰上同样是提升档次及附加值

      金属在特定环境下(压力，温度，电磁场等)与各种气体(氩气，氮气，氧气及乙炔气等)产生综合作用形成等离子体，经过加速后，等离子体涌向被镀工件表面，形成牢固的膜层。该镀钛膜层细密均匀，结合力强，硬度高，防腐耐磨，具有良好的导电性和自润滑性能，同时色泽丰富多样，因此真空镀膜不仅是提高材料使用性能的有力手段，在装饰上同样是提升档次，提高附加值的最佳选择。 

      真空镀膜设备制作的膜层厚度均匀性，是指在光学薄膜的尺度上真空镀钛的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍，如果是指原子层尺度上的均匀度，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈。

      蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜， 一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面。均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

      而对于溅射镀膜来说，利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。溅射镀膜中的激光溅射镀膜组分均匀性容易保持，而晶生长的控制也比较一般。靶材与基片的晶格匹配程度、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。对于不同的溅射材料和基片，最佳参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否精确控温，能否保证好的真空度，已经比较好的解决了如上所属的问题，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。 

      PVD(物理气相沉积)技术在二十世纪七十年代末，PVD镀钛开始应用在提高机械力学性能的硬质膜方面，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国工具制造业的高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。 

      PVD镀钛离子真空镀膜技术是一种物理气相沉积技术，通常在低气压气体放电等离子体环境中进行，也称为离子气相沉积。离子镀膜不仅可以镀单单一金属和合金，而且还可以获得电镀和化学镀所不能得到的金属与非金属化合物镀层。此镀层的硬度和耐磨性极高，若用于刀具，可以大幅度提高刀具的切削速度和使用寿命，还可以改善切削过程，提高加工精度。在一般情况下离子镀的镀层很薄，所以常将离子镀的镀层称为镀膜。更重要的是，真空蒸镀和溅射镀膜传统的蒸镀以及溅射镀膜都主要利用中性粒子成膜，在膜层粒子到达基片时的速度较低，因而会产生诸如沉积速率低、膜层附着力差、膜层不致密等问题，而离子镀可以很好解决上述问题。

镀钛优点：

摩擦系数降低，减小加工受力

提高表面硬度，大大延长模具寿命

防止产品拉毛、拉伤，提升产品质量

省去卸模、抛光再装模的烦恼，提高效率

     精密衡压模具经真空镀膜涂层被覆后表面可拥有极低的摩擦系数，减少加工受力。模具经真空涂层被覆后表面硬度可提高5到10倍，可大幅减少表面磨耗，特别是用于高精密加工时可获得非常优异的表面质量。冷冲成形及拉伸模具经真空涂层被覆后可显著降低摩擦力，明显减少加工中产生的刮痕及磨耗。因此可增加寿命，大幅降低成本. 

镀钛的基本条件:

1. 热处理回火温度：SLD﹑SKD﹑SKH,钨刚等各种经热处理后的钢材,必须高温回火,回火处理,温度最好为500℃以上.

2. 工作表面不可有锈斑﹑黑皮存在,且工件不得有焊补过.

3. 若工件为组合件,须将工件拆开成单件来处理.

4. 工作面其光泽度要求为0.2~0.4.

注︰表面光泽度影响其附着力﹐光泽度越好其附着力越强﹐模具的使用寿命越長.

5. 欲留模具﹑冲棒的公差.