一、 涂层工件表面要求：

1、工件表面不能做其它的表面改性处理，如：电镀、渗氮、磷化、氧化发黑、TD、QBQ处理等；

2、工件表面不能有锈蚀、腐蚀、油漆、胶水等；

3、工件表面粗糙度要求：一般的刀模具在满足使用需求的前提下越光亮越好，成型面Ra＜0.2μm    为宜，对于镜面、蚀纹的塑胶 模具则完全以产品需求为准；

4、组合模具或镶嵌工具，能够拆开的必须全部拆开，要涂层的工件最好是一个整体单件，效果最    佳；

   焊接工件表面需彻底清洁，不能有氧化层或埋孔。

二、PVD - 涂层技术

1、增强型磁控阴极弧：阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状      态，从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用，将靶材表面的电弧    加以有效地控制，使材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。

2、过滤阴极弧：过滤阴极电弧(FCA )配有高效的电磁过滤系统，可将离子源产生的等离子体中的    宏观粒子、离子团过滤干净，经过磁过滤后沉积粒子的离化率为100%，并且可以过滤掉大颗      粒， 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强。

3、磁控溅射：在真空环境下，通过电压和磁场的共同作用，以被离化的惰性气体离子对靶材进行    轰击，致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜。根据使用的电离    电源的不同，导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。

4、离子束DLC：碳氢气体在离子源中被离化成等离子体，在电磁场的共同作用下，离子源释放出    碳离子。离子束能量通过调整加在等离子体上的电压来控制。碳氢离子束被引到基片上，沉积    速度与离子电流密度成正比。星弧涂层的离子束源采用高电压，因而离子能量更大，使得薄膜    与基片结合力很好；离子电流更大，使得DLC膜的沉积速度更快。离子束技术的主要优点在于    可沉积超薄及多层结构，工艺控制精度可达几个埃，并可将工艺过程中的颗料污染所带来的缺    陷降至最小。